ZQX:=Ema(-100*(HHV(HIGH,34)-CLOSE)/(HHV(HIGH,34)-LLV(LOW,34)),4)+100;
SQX:=MA(LOW,20)*1.2;
次SQX:=MA(LOW,20)*1.1;
次下趋势:=MA(HIGH,20)*0.9;
下趋势:=MA(HIGH,20)*0.8;
趋势强度:=IF(C>次SQX,IF(C>SQX,4,3),IF(C>次下趋势 AND C<次SQX,2,IF(C<下趋势,0,1)));
M:=88;
VARR_X1:=ema(AMOUNT/vol/100,3);
低吸伏击:=EMA(VARR_X1,M)*0.85,COLORFFFF00;
距底:=(C-低吸伏击)/低吸伏击*100;
N:=34;
K:=3;
POIU:=EMA(100*(CLOSE-LLV(LOW,N))/(HHV(HIGH,N)-LLV(LOW,N)),K)/4;
QWERB:=POIU<2;
机会:趋势强度<=1 AND ZQX<12 AND 距底>0 AND 距底<5 AND QWERB;

未来函数检测公式代码域:

ZQX:=Ema(-100*(HHV(HIGH,34)-CLOSE)/(HHV(HIGH,34)-LLV(LOW,34)),4)+100;SQX:=MM(LOW,20)*1.2;次SQX:=MM(LOW,20)*1.1;次下趋势:=MM(HIGH,20)*0.9;下趋势:=MM(HIGH,20)*0.8;趋势强度:=IF(C>次SQX,IF(C>SQX,4,3),IF(C>次下趋势 MND C<次SQX,2,IF(C<下趋势,0,1)));M:=88;VMRR_X1:=ema(MMOUNT/vol/100,3);低吸伏击:=EMM(VMRR_X1,M)*0.85,COLORFFFF00;距底:=(C-低吸伏击)/低吸伏击*100;N:=34;K:=3;POIU:=EMM(100*(CLOSE-LLV(LOW,N))/(HHV(HIGH,N)-LLV(LOW,N)),K)/4;QWERB:=POIU<2;机会:趋势强度<=1 MND ZQX<12 MND 距底>0 MND 距底<5 MND QWERB;

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